第23回研究評価委員会

平成21年10月14日

開催案内

　標記の件につきまして、下記の通り開催いたします。
　傍聴をご希望の方は、10月22日（木）までに文末のフォームに必要事項をご記入の上、登録をお願いいたします。なお、希望者多数の場合は人数を調整の上、傍聴をお断りすることもございますのでご了承下さい。（締切後は入力不可）

記

開催日時

平成21年10月29日（木）　13時15分～17時15分

開催場所

川崎日航ホテル　12階「東」
住所：〒210-0024　川崎市川崎区日進町1番地
TEL：　044-244-4441

交通

JR川崎駅（東口）　徒歩1分
京急川崎駅　　　　徒歩5分

議題案

開会、委員紹介、資料の確認、研究評価委員会の運営等について
議事
1. プロジェクト評価について【審議 5件】
  - 中間評価
  - 〔1〕希少金属代替材料開発プロジェクト
  - 〔2〕次世代自動車用高性能蓄電システム技術開発
  - 〔3〕創薬加速に向けたタンパク質構造解析基盤技術開発
  - 〔4〕次世代ロボット知能化技術開発プロジェクト
  - 事後評価
  - 〔5〕パワーエレクトロニクスインバータ基盤技術開発
2. プロジェクト評価について【報告　16件】
  - 中間評価
  - 〔1〕戦略的先端ロボット要素技術開発プロジェクト
  - 〔2〕水素貯蔵材料先端基盤研究事業
  - 〔3〕革新的ノンフロン系断熱技術開発プロジェクト
  - 〔4〕高性能ハイパースペクトルセンサ等研究開発プロジェクト
  - 〔5〕マルチセラミックス膜新断熱材料の開発
  - 〔6〕戦略的石炭ガス化・燃料技術開発
  - 〔7〕構造活性相関手法による有害性評価手法開発
  - 〔8〕高機能複合化金属ガラスを用いた革新的部材技術開発
  - 〔9〕次世代大型低消費電力液晶ディスプレイ基盤技術開発
  - 〔10〕ナノエレクトロニクス半導体新材料・新構造ナノ電子デバイス技術開発
  - 〔11〕次世代大型低消費電力プラズマディスプレイ基盤技術開発
  - 〔12〕化学物質の最適管理をめざすリスクトレードオフ解析手法の開発
  - 〔13〕ナノエレクトロニクス半導体新材料・新構造技術開発
    －窒化物系化合物半導体基板・エピタキシャル成長技術の開発－
  - 事後評価
  - 〔14〕高耐久性メンブレン型LPガス改質装置の開発
  - 〔15〕中小企業基盤技術継承支援事業
  - 〔16〕次世代高度部材開発評価基盤の開発
3. プロジェクト中間評価結果の反映状況について
4. 平成21年度プロジェクト評価結果取り纏め状況等（前半）
5. 平成21年度追跡調査・評価の実施状況について
6. 平成22年度分科会の設置について
7. 今後の予定
閉会

当日諸事情により予定が変わる可能性があります。

問い合わせ

本委員会に関するお問い合わせは、下記までE-mailまたはTELにてお願いします。
独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構
研究評価部（吉崎、山本）
TEL：　044-520-5160
E-mail：eval@nedo.go.jp

　

開催会場・定員

開催会場・日時・定員
状況	会場	申込期間	開催日・期間	日時	定員
申込受付終了	川崎日航ホテル	平成21年10月14日～平成21年10月22日	平成21年10月29日	13時15分～ 17時15分	20人

「残りわずか」・・・10人以下

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